機器リスト
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DNAシーケンサ
三次元計測装置
感性評価システム
レーザー加工システム
空間電荷分布計測装置
抵抗率計
ラマン分光光度計
偏光顕微鏡(デジタルカメラ付)
表面プラズモン共鳴(SPR)測定装置
LCMS(液体クロマトグラフ質量分析)
μEDX(エネルギー分散型微小部蛍光X線分析装置)
ワイヤーカット放電加工機
透過型電子顕微鏡
走査型電子顕微鏡
EDS(エネルギー分散形元素分析装置)
スパッタ装置
3Dプリンタ
ハンディ3Dスキャナ
ガスクロマトグラフィ

DNAシーケンサ

メーカー ABI(アプライドバイオシステムズ社)
型式 PRISM 3100Genetic Analyzer、GeneAmp 2700
用途 DNAの塩基配列を解析する装置
特徴 サンプルローディングからデータ解析までを完全に自動化、Comparative Sequence(比較シーケンス)解析やDNAフラグメント解析などが可能
16本のマルチ キャピラリーシステム
24時間の自動運転
自動ポリマー充填および96、384ウェルプレートからの自動サンプル注入
参考サイト ABI(アプライドバイオシステムズ社)| 製品情報
部屋番号 遺伝子実験部門

三次元計測装置

メーカー (株)浜野エンジニアリング
型式 人体全身計測タイプ(LPW-2000FW)
用途 人体全身を三次元計測する装置
特徴 新開発の画像処理技術によって、全身前後面を5秒で計測
8台のCCDを使用することで広範囲を高精度に計測可能
JIS安全基準(クラス2)の基準以下の安全なレーザ光を使用
参考サイト (株)浜野エンジニアリング | 製品情報
部屋番号 402 シールドルーム

感性評価システム

メーカー BAIOPAC Systems社
型式 生理情報集録装置 (MP150)、血流測定装置(LDF100C)、計測解析ツール(Acqknowledge)
用途 血流測定および解析
特徴 MP150システムは、インタフェースにイーサネットを採用することにより、高速データ取り込み(最大400K)、LAN上での制御が可能
ディファレント・サンプリング機能により、各信号に合わせてサンプリングレートを設定しデータ取り込みが可能
参考サイト (株)モンテシステム | 製品情報
部屋番号 304測定室(2)

レーザー加工システム

メーカー (株)ハイパー・フォトン・システム
型式 HPS301T
用途 355nmのヤグレーザ(出力 7mJ/Pulse)によって、基板上の薄膜の加工(トリミング、パターニング等)を行う装置
特徴 モニタ画面上で加工位置、形状を確認しながら加工できる
アパチャ投影方式の採用により、加工形状の細かい設定が可能
参考サイト (株)ハイパー・フォトン・システム | 製品情報
部屋番号 201測定室(1)

空間電荷分布計測装置

メーカー ファイブラボ(株)
型式 PEANUTS
用途 パルス静電応力法(PEA法)により誘電体・絶縁材料内部の空間電荷分布を非破壊で簡単にリアルタイムに測定できる装置
特徴 試料の厚み方向に対して10μmの位置分解能
シート状の試料を測定電極にセットし、パルス発生器をONするだけ(専用プログラムを用いれば、オシロスコープの設定・操作も簡単)
高速パルス発生器とトランジェント測定ユニットを組み合わせれば、高速(50μsec~)で変化する電荷の動きを測定できる
参考サイト ファイブラボ(株)| 製品情報
部屋番号 201 測定室(1)

抵抗率計

メーカー (株)ダイアインスツルメンツ
型式 ロレスタGP MCP-T610,ハイレスタUP MCP-HT450
用途 試料の抵抗率、表面抵抗率、体積抵抗率を測定する装置
特徴 定電流印加法、四端子四探針法によって10-3~107Ωの低抵抗を測定可能 (JIS K 7194準拠)
定電圧印加法、二重リング法によって104~1013Ωの高抵抗を測定可能 (JIS K 6911準拠)
参考サイト (株)ダイアインスツルメンツ | 製品情報
部屋番号 201 測定室(1)

ラマン分光光度計

メーカー カイザー
型式 Hololab 5000
用途 ラマン散乱によって分子振動を読み取る装置
特徴 顕微鏡装備
レーザ波長は532nm
参考サイト (株)島津製作所 | 製品情報
部屋番号 201 測定室(1)

偏光顕微鏡(デジタルカメラ付)

メーカー オリンパス(株)
型式 偏光顕微鏡BX51N-33P-OC、顕微鏡デジタルカメラ DP70
用途 偏光を使って試料の光学的性質を調べる装置
特徴 デジタルカメラ(CCD、1250万画素相当の高解像度、約3秒での画像取り込み、ISO1600相当の高感度)によって画像撮り込みが可能
ベレックコンペンセータによるリターデーション測定(複屈折の算出)も可能
参考サイト オリンパス(株)| 製品情報(1)
オリンパス(株)| 製品情報(2)
部屋番号 201 測定室(1)

表面プラズモン共鳴(SPR)測定装置

メーカー Biacore AB
型式 Biacore(r) X
用途 生体分子等の相互作用の反応速度、アフィニティ、濃度測定、特異性、交差反応性を測定する装置
特徴 正確なデータを得る高感度(検出可能範囲は100RU単位で最高70,000RUまでの広域)
優れたS/N比により低分子化合物やアフィニティの弱い反応の測定が可能
ダイナミックレンジは屈折率1.33~1.40をカバー
参考サイト BIACORE | 製品情報
部屋番号 201 測定室(1)

ゼーター電位測定装置

メーカー アントンパール社
型式 ゼータ電位測定装置(EKA66345)
用途 固体表面のゼータ電位を高精度で測定する装置
特徴 PHメータと組み合わせることで、溶液のPHを連続的に変化させながら、物質表面のゼータ電位の変動具合を連続して測定
固体サンプルの形状を選ばず、粉体、薄膜、繊維状、板状のサンプルとあらゆる形のものが使用可能
部屋番号 201 測定室(1)

LCMS(液体クロマトグラフ質量分析)

メーカー (株)島津製作所
型式 LCMS-2010A
用途 液体クロマトグラフで、有機化合物を分離、溶出した成分をさらにイオン化しで分析・質量測定をする装置
特徴 大幅な感度の向上
新イオン化部により極性の高い化合物から低い化合物までエレクトロスプレー法で高感度に分析可能
MSスペクトルの質の向上
参考サイト (株)島津製作所 | 製品情報
部屋番号 201 測定室(1)

μEDX(エネルギー分散型微小部蛍光X線分析装置)

メーカー (株)島津製作所
型式 μEDX-1300
用途 X線照射後試料より放出された全体の蛍光X線を、波高分析器を用いて元素ごとのエネルギーに分離し、そのエネルギーの値および強度を測定することにより、元素の種類及び割合を測定する装置
特徴 微小領域(50μm)のみに高輝度X線を照射し、高感度、高精度な分析が可能です。
軽元素から重元素まで大気中で分析可能
真空不要の測定システム、高いスループプットを達成
多元素同時/自動マッピング機能を搭載
透過像観察ユニットにより透過X線像の同時測定も可能
参考サイト (株)島津製作所 | 製品情報
部屋番号 201 測定室(1)

ワイヤーカット放電加工機

メーカー (株)ソディック
型式  ワイヤーカット放電加工機(AQ325L)、CAD/CAM(DiProWIN Version5)
用途 ワイヤ形状の電極を用いて切断加工を行なう装置
特徴 X、Y、U、V軸に自社開発リニアサーボモータを搭載(従来のボールねじ駆動機構に比べ高い応答性と位置決め精度を実現)
省エネルギーCNC電源「LN1W/LN10W」搭載(高速・高精度加工と加工エネルギの40%削減を実現)
高効率加工でトータル加工時間の短縮(2回加工で3μmRyの面粗さを実現)
高速自動結線装置(高速AWT)搭載(自動結線時間9秒(サイクルタイム14秒)を実現)
参考サイト (株)ソディック | 製品情報
部屋番号 102 レーザー加工室

 

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透過型電子顕微鏡

メーカー 日本電子(株)
型式  JEM-2100
用途 透過した電子が作りだす干渉像を拡大して観察する電子顕微鏡
特徴 LaB6電子銃搭載、点分解能:0.19nm、倍率:×80~1500000、加速電圧:80~200Kv、各機能がPC管理でき、CCDカメラで像を得る。
参考サイト 日本電子(株) | 製品情報
部屋番号 総合研究棟1F解析システムセンター(2)-1室

走査電子顕微鏡

メーカー 日本電子(株)
型式  JSM-6010LA
用途 真空中で細く絞った電子ビームで試料表面を走査し、試料から出てくる情報を検出して画面上に試料表面の拡大像を表示する装置
特徴 高真空モード、低真空モードが標準装備です。また低真空内凍結乾燥法により、水分を含んだ試料でも試料変形の少ない像が容易に得られる。
二次電子像、反射電子像(組成像、凹凸像、立体像)
倍率×5~×300000  加速電圧0.5Kv~20Kv
最大試料サイズ150mm径、48mm高
ナビモード搭載で操作が簡単
参考サイト 日本電子(株) | 製品情報
部屋番号 201測定室

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EDS(エネルギー分散形元素分析装置)

メーカー 日本電子(株)
型式 JSM-6010LA内蔵
用途 電子線を試料表面に照射して発生した特性X線を検出し元素分析を行う装置
特徴 窒素レスEDS検出器搭載により、常時元素分析が可能
定性、定量、多元素同時マッピング
検出元素:B~U
エネルギー分解能:133eV
参考サイト 日本電子(株) | 製品情報
部屋番号 201測定室

スパッタ装置(オートファインコーター)

メーカー 日本電子(株)
型式  JFC-1600
用途 走査電子顕微鏡の試料作成用として、非導電性試料へのコーティングを行う装置
特徴 ターゲット Pt
スパッタリング方式:マグネトロン型
オート操作モードにより、スパッタ条件が一定
参考サイト 日本電子(株) | 製品情報
部屋番号 201測定室

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3Dプリンタ

メーカー (株)OPT
型式 UP! Plus
用途 CADデータを造形する
特徴 ABS樹脂を熱で溶かしながら積層する.溶媒を一切使用しない.
サポート材の除去に,カッターやルーターでの作業が必要.
参考サイト (株)OPT| 製品情報
部屋番号 103室

 

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ハンディ3Dスキャナ

メーカー (株)OPT
型式 Artec 3Dスキャナー Eva
用途 立体の3Dデータを取得する
特徴 スキャナ本体を手持ちで対象物にまんべんなくかざすことで,連続データを取得することができる.
軽量・小型なので,様々な場所の対象物のデータを取得できる.
対象物のカラーのテキスチャ画像を取得できる.
参考サイト (株)OPT| 製品情報
部屋番号 103室

  

ガスクロマトグラフィ

メーカー (株)島津製作所
型式 GC-2014
用途 気化しやすい化合物の同定・定量が可能
特徴  キャピラリカラムとパックドカラムを用いた測定が可能。
キャリアガスにはヘリウムを使用。
FID(Flame Ionization Detector, 水素炎イオン化型検出器)により物質を検出。
オートサンプラーとGCsolutionを備え、一度に100以上のサンプルのセットが可能。
部屋番号 201室

 

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